PECVD射頻模塊：PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109--1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)物質(zhì)，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及科學(xué)院校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)和信任的品牌。 公司以科技創(chuàng)新為主，服務(wù)社會為宗旨，積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備，奉獻于教育和科學(xué)，經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累，擁有熱工，制造，控制相關(guān)技術(shù)10余項，為化學(xué)，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強強聯(lián)合，形成了有效的信息，技術(shù)交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！ 目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機 小型離子濺射儀 小型蒸鍍儀 石英管真空封口 真空探針臺 半導(dǎo)體等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。 公司與國內(nèi)高校，科研院所有多層次的合作關(guān)系，建有開放實驗室，相關(guān)領(lǐng)域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力，科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

PECVD射頻模塊：PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109--1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)物質(zhì)，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單，與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較，生長溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。

PECVD射頻模塊技術(shù)參數(shù)

型號	KT--PE150S	KT-PE500Z
信號頻率	13.56MH? ±0.005%
功率輸出范圍	0-150W	0-500W
功率穩(wěn)定度	≤5W
最大反射功率	40W
射頻輸出接口	7/16 female 50 Ω
功率穩(wěn)定度	≤5W
匹配方式	手動調(diào)節(jié)匹配	500W自動匹配
耦合方式	電感式耦合
輝光壓力	≤30Pa
供電電壓	AC220V±10%   50/60H?
整機效率	≥70%
冷卻方式	強制風(fēng)冷
支持爐管直徑	Φ25mm--φ80mm	Φ25mm--150mmφ
感應(yīng)區(qū)	210mm
整機重量	48KG
整機尺寸:H×W×D(mm)	600×600×1100

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