Research桌面真空鍍膜

成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設備的技術提升，在服務領域深耕細作，具有較深的技術沉積。
公司成立以來，秉承“超越極限，邁向卓越”的核心價值觀，在自己所擅長領域為客戶提供優(yōu)良的產品和技術解決方案，公司注重產品和運營模式創(chuàng)新，我們堅信：唯有創(chuàng)新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業(yè)單位進行橫向合作，形成了科研級、工業(yè)級、軍品級產品體系，已為客戶設計制造了多套專用設備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽。

1. 主體：全封閉框架結構，真空室為前開門方式，機柜和主機為一體式機構。采用優(yōu)質0Cr18Ni9不銹鋼材料（SUS304），箱體尺寸為不小于φ350x400mm。設置DN100觀察窗口，位于真空腔體門正前方，骨架默認白色（或鋁合金本色），門板為白色，四只腳輪，可固定，可移動。室體、真空機組、磁控靶等有斷水報警鎖定安全裝置，能夠防止停水后出現安全隱患。

2. 真空系統(tǒng)：

2.1極限真空度：≤6.63×10－4Pa（空載、經充分烘烤除氣并充干燥氮氣）。

2.2真空配置：高速直聯(lián)旋片泵一臺，抽速大于6L/S，超高分子泵一臺，抽速600L/s。

2.3真空測量：兩路電阻規(guī)，一路電離規(guī)；對真空室和真空管道分別精確監(jiān)控，帶數據通訊。

3. 工件架系統(tǒng)：單工位4英寸工件盤，工件盤可加熱至500攝氏度，工件架真空室底部安裝，便于更換基片，轉速3～30rpm。

4. 照明裝置：照明裝置1套。

5. 磁控濺射系統(tǒng)：配置2-3個Φ50mm磁控靶，安裝于真空室頂部，向下濺射成膜。

6.充氣系統(tǒng)：二路分別配置質量流量控制器，分別為0-100SCCM 1只，0-200SCCM1只，準確度±1% F.S，線性±0.5 % F.S，重復精度±0.2% F.S。

7.循環(huán)冷卻水路：配置冷水機組與空壓機。

8.電氣控制系統(tǒng)：采用功能化模塊設計方式，匹配西門子控制單元和MCGS人機界面，實現真空系統(tǒng)的自動控制，基本工作單元的控制，安全報警及故障信息顯示，并通過文字方式提示，軟件的功能和模塊可以根據實際需求進行單列或合并，但不得減少功能。

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