| 提交詢價信息 |
| 發(fā)布緊急求購 |
價格:電議
所在地:上海
型號:
更新時間:2022-12-13
瀏覽次數(shù):788
公司地址:上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
![]()
葉小姐(女士) 銷售工程師
Hakuto 離子蝕刻機
伯東公司日本原裝設計制造離子蝕刻機 IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復合半導體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料. 自 1970年至今, 伯東公司已累計交付約 500套離子刻蝕機.
伯東公司超過 50年的刻蝕 IBE 市場經驗, 擁有龐大的安裝基礎和經過市場驗證的刻蝕技術!
離子刻蝕機 4IBE 離子刻蝕機 20IBE 全自動蝕刻機 MEL 3100
離子蝕刻機 IBE 主要型號
伯東提供用于研究分析的小尺寸離子刻蝕機, 用于生產制造的大尺寸離子蝕刻機以及全自動蝕刻機.
配置美國 KRI 考夫曼離子源和德國 Pfeiffer 分子泵.
|
型號 |
4 IBE |
7.5 IBE |
16 IBE |
20 IBE-C |
MEL 3100 |
|
樣品數(shù)量尺寸 |
4”φ, 1片 |
4”φ, 1片 |
6”φ, 1片 |
4”φ, 6片 |
3”φ-6”φ,1片 |
|
離子束入射角度 |
0~± 90 |
0~± 90 |
0~± 90 |
0~± 90 |
- |
|
考夫曼離子源 |
KDC 40 |
KDC 75 |
KDC 160 |
考夫曼型 |
- |
|
極限真空度 Pa |
≦1x10-4 |
≦1x10-4 |
≦1x10-4 |
≦1x10-4 |
≦8x10-5 |
|
Pfeiffer 分子泵抽速 l/s |
350 |
350 |
1250 |
1250 |
- |
|
均勻性 |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
≤±5% |
離子蝕刻機特性:
1. 采用美國 KRI 考夫曼型離子源, 保障蝕刻速率和均勻性
2. 干式制程, 物理蝕刻的特性
3. 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
4. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環(huán)境下蝕刻.
5. 配置公轉自轉傳輸機構 ”Dry Chuck Planet ”, 使得樣品可以得到比較均勻平滑的表面.
通 Ar 時, 對各種材料的刻蝕速率

NS 離子刻蝕機 20IBE-J 視頻
離子刻蝕機 3-4inch 20IBE 視頻
離子蝕刻機應用
薄膜磁頭 Thin film Magnetic Head, 自旋電子學 Spintronics, MR Sencer
微電子機械系統(tǒng) MEMS Micro-electromechanical Systems
射頻設備 RF Devices, 光學組件 Optical Component, 超導電性 Super Conductivity

Hakuto 日本原裝設計制造離子刻蝕機 IBE, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料,黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復合半導體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計交付約 500套離子蝕刻機. 蝕刻機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!
若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡方式 :
上海伯東 : 羅先生 臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 M: +886-939-653-958
www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究!
免責聲明:以上所展示的[ 伯東公司日本原裝設計制造離子蝕刻機]信息由會員[伯東企業(yè)(上海)有限公司]自行提供,內容的真實性、準確性和合法性由發(fā)布會員負責。